1、可测定各种有色金属的各种元素,适用于多种金属基体，如：铝基、铜基、锌基。全谱技术覆盖了全元素分析范围，可根据客户需要选择通道元素；
2、分析速度快捷，20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及标线，使仪器用短的时间达到优的分析效果；
3、光学系统采用恒温光室，激发时产生的弧焰由透镜直接导入光室，实现光路直通,消除了光路损耗，提高检出限，测定结果准确，重现性及长期稳定性佳；
4、特殊的光室结构设计，体积小、重量轻；
5、自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线，与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定；
6、开放式的电极架设计，可以调整的样品夹，便于各种形状和尺寸样品分析；
7、工作曲线采用国际标样，预做工作曲线，可根据需要延伸及扩展范围，每条曲线由多达几十块标样激发生成，自动扣除干扰；
8、HEPS数字化固态光源，适应各种不同材料 ；
9、铜火花台底座，提高散热性及坚固性能；
10、合理的氩气气路设计，使样品激发时氩气冲洗时间缩短，为用户节省氩气，氩气消耗不到普通光谱仪的一半；
11、采用钨材料电极，电极使用寿命更长，并设计了电极自吹扫功能，清洁电极更加容易；
12、高性能DSP及ARM处理器，具有高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况；
13、与计算机之间采用以太网连接，抗干扰性能好，外部计算机升级与仪器配置无关，使仪器具有更好的适用性；
14、核心器件全部原装进口，保证了仪器的品质。
| CX-9000直读光谱仪 |
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平场型光学系统 |
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自动控制恒温：35℃±0.5℃ |
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200-500nm |
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350 mm |
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25.4mm |
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2160 l/mm |
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1.2 nm/mm |
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多块高性能线阵CCD |
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10pm/pixel |
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冲氩式 |
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激发时3-5L/min，待机时:无须待机流量 |
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钨材喷射电极技术 |
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点击自吹扫功能 |
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热变形自补偿设计 |
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样品台分析间隙：4mm |
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HEPS固态光源 |
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100-1000Hz |
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1-80A |
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放电参数优化设计 |
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高能预燃技术 |
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高端ARM处理器，高速数据同步采集处理 |
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基于DM9000A的以太数据传输 |
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220VAC/50Hz |
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分析时700W，待机状态40W |
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10-30℃（该温度范围内温度变化不大于5℃/h） |
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20-80% |
广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制，炉前化验，中心实验室成品检验。
